硅靶廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子、半導(dǎo)體、觸摸屏等領(lǐng)域器件鍍膜。
| 元素符號(hào) | : | Si |
| 純度 | : | 4N+ |
| 形狀 | : | 平面靶；旋轉(zhuǎn)靶 |
| 外觀 | : | 深灰色，半金屬 |
| 典型密度 | : | 2.32g/cm3 |
| 常規(guī)尺寸 | : | 平面靶: 500x500x30mm 旋轉(zhuǎn)靶: L4000mm 其它尺寸可定制 |
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