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濺射靶材

濺射靶材主要用于真空鍍膜設(shè)備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創(chuàng)建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。

用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復(fù)雜的合金材料制成。

先導(dǎo)薄膜材料為各行業(yè)客戶提供不同材料所制成的平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材，我們的制備技術(shù)先進(jìn)，保證產(chǎn)品達(dá)到最佳的使用性能。